Университет Назарбаева

Газовая обвязка установок
атомно-слоевого осаждения,
плазмохимического травления и осаждения

Газовая обвязка установок атомно-слоевого
осаждения, плазмохимического травления
и осаждения в Университете Назарбаева

Установки ALD, RIE и PECVD компании

Oxford Instruments Plasma Technology

PlasmaPro 80 PECVD, PlasmaPro80 RIE, FlexAl

Подключенные газы: SiH₄, NH₃, N₂O, SF₆, CHF₃, C₄F₈, He, Ar, O₂, N₂

Оставьте заявку и мы ответим на все ваши вопросы

наши решения

Установка плазмохимического травления и осаждения.
Газы: SF₆, CHF₃, He, N₂, Ar, O₂

Установка плазмохимического травления.
Газы: SF₆, CHF₃, C₄F₈, He, Ar, O₂

Установки плазмохимического травления в хлорной и фторной плазме
Газы: Cl₂, BCl₃, SF₆, CHF₃, C₄F₈, He, Ar, O₂, N₂